光柵，Wasatch Photonics光柵，LightSmyth光柵，透射光柵，反射光柵，全息光柵


	線陣CCD光纖光譜儀背照面CCD光纖光譜儀線陣PDA光纖光譜儀近紅外光譜儀紅外光譜儀熒光光譜儀線陣PbSe光譜儀光柵光譜儀雙色散單色儀 HORIBA JY光譜儀和探測器地物光譜儀，地物波譜儀 Apogee (AIS) CCD探測器

光譜應(yīng)用系統(tǒng)

激光器


	Menlo飛秒激光器 CrystaLaser激光器 CryLas激光器 CVI激光器小型紅外連續(xù)可調(diào)激光器 Schafter Kirchhoff激光器 Coherent半導(dǎo)體激光器半導(dǎo)體激光器/窄線寬拉曼激光器 Nd:YAG脈沖激光器可調(diào)激光器OPO,鈦寶石飛秒Yb:KYW激光器 PDLD VBG拉曼激光器多波長脈沖激光器 ALS Pilas皮秒激光器 Toptica超快光纖激光器 Denselight SLED和DFB

激光測量


	激光波長計積分球激光分析 Coherent激光功率計能量計 Dataray激光光束分析系統(tǒng) 自相關(guān)儀 FJW紅外觀察儀 Batop可飽和吸收鏡激光防護鏡激光電流源控制器TEC 自適應(yīng)光學(xué)元件可變形反射鏡波前傳感器超快激光鏡片 EOT高速光電探測器 EOT光隔離器 WOP偏振轉(zhuǎn)換片 Alphalas超快探測器可調(diào)波片 OKO薄膜變形鏡壓電變形鏡波前傳感器橫河光譜分析儀光時域反射儀光波長計 VIALUX空間光調(diào)制器 AdlOptica平頂光束整形器 ScannerMax掃描振鏡

寬帶光源


	氘燈鹵鎢燈氘鹵鎢燈氙燈大功率光源 LED光源波長校準汞氬燈能量校準燈太陽能模擬器積分球均勻光源太陽能模擬器均勻光源氮化硅紅外光源標準黑體

LED影像測量


	LED和OLED測量系統(tǒng) LED光強測試系統(tǒng) 燈具測試系統(tǒng) 平面顯示測量圖像光度計 Brontes色度計高光譜成像系統(tǒng) 光譜圖像輻射計 Apogee (AIS) CCD探測器

光學(xué)附件

Thorlabs

Newport

Edmund

CVI

標準反射板

Zemax光學(xué)設(shè)計軟件


	太赫茲晶體太赫茲一體化系統(tǒng) 實驗室級太赫茲系統(tǒng) 太赫茲圖像系統(tǒng) 太赫茲功率計自校正高靈敏太赫茲功率計太赫茲光電導(dǎo)天線太赫茲光學(xué)元件/偏振片 Terasense太赫茲相機線陣列太赫茲相機和發(fā)生器高功率太赫茲發(fā)生器 Nethis太赫茲顯示卡 Tydex太赫茲鏡片/偏振片/濾光片 INO太赫茲相機/鏡頭

濾光片

石墨烯納米材料

LightSmyth光柵

Lightsmyth成立于2000年，致力于納米產(chǎn)品的開發(fā)創(chuàng)新。2007年，lightsmyth的高性能衍射光柵在光通信、國防和生物科技市場中獲得市場認可。直到今天，lightsmyth所提供的超過100多種優(yōu)化的光柵產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域。lightsmyth產(chǎn)品和創(chuàng)新是圍繞全息衍射原理，通過結(jié)合先進的半導(dǎo)體模型工具如深紫外線（DUV）步進電機制造中的應(yīng)用/掃描儀進行生產(chǎn)制造。

Lightsmyth是納米光子學(xué)創(chuàng)新產(chǎn)品開發(fā)的領(lǐng)導(dǎo)者。創(chuàng)新包括超高效率的偏振不敏感光柵的電信產(chǎn)品線，硅基板等超低散射高質(zhì)量功能先進的衍射光柵。

LightSmyth熔融石英和高強度介電薄膜生產(chǎn)透射光柵，采用業(yè)界當前先進投影光刻基板和和反應(yīng)性離子蝕刻技術(shù)。這種高保真半導(dǎo)體制造方法使用專有衍射光柵設(shè)計，實現(xiàn)效率精確接近100％，線間距控制到百萬分之一。綜合量產(chǎn)制造的成本效益考慮，沒有其他的光柵技術(shù)能夠達到lightsmyth這種程度的性能。正因為對設(shè)計和技術(shù)的不懈追求，LightSmyth的光柵具有很寬的波長范圍，并且可以調(diào)整入射角進一步得到更高性能。

高寬帶高衍射效率
低偏振靈敏度
功能卓越，均勻刻線槽
僅采用熔融石英和高強度電介質(zhì)，無聚合物
非常高的環(huán)境穩(wěn)定性，通過Tellcordia質(zhì)量認證
每個光柵均為母光柵：低散射，無重影
大的通光區(qū)域：直徑可達140毫米
非常有競爭力的價格
嚴格的質(zhì)量控制：通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證

高級透射光柵（電信）-光通信高效率偏振無關(guān)透射光柵

透射光柵是使透射光形成光譜的光柵。LightSmyth高性價比透射光柵采用業(yè)界先進的設(shè)計和精確的光刻晶圓級制造技術(shù)，光學(xué)性能與低成本不斷刷新紀錄，為您的光學(xué)系統(tǒng)提供強大的競爭優(yōu)勢。高衍射效率，低PDL和極具競爭力的價格為您提供世界上高性價比的透射光柵。

LightSmyth光柵

Description	T-940-C	T-966-C	T-940-L	T-940-CL	Units
Groove Density	940.07	966.2	940.07	940.07	grooves/mm
Operational Wavelength Range	1526-1566 (C band)	1526-1566 (C band)	1570-1610 (L band)	1526-1610 (C+L band)	nm
Optimum Incidence Angle	46.5	48.3	48.4	47.5	degrees
Groove Density Uniformity	0.001	0.001	0.001	0.001	grooves/mm
Diffraction Efficiency (s- and p-polarization)	> 94	> 94	> 94	> 92	%
Polarization Dependent Loss	< 0.2	< 0.2	< 0.2	< 0.25	dB
Spectral Non-Uniformity	< 0.15	< 0.15	< 0.15	< 0.25	dB
Spatial PDL Non-Uniformity	< 0.1	< 0.1	< 0.1	< 0.1	dB

Type	Substrate Size	Clear Aperture	Part Number
C band, 940 grooves/mm	24 × 9 mm	23 × 8 mm	T-940C-2409-94
	24 × 14 mm	23 × 13 mm	T-940C-2414-94
C band, 966 grooves/mm	16 × 10 mm	15 × 9 mm	T-966C-1610-94
	27 × 10 mm	26 × 9 mm	T-966-C-2710-94
	24 × 16.4 mm	23 × 15.4 mm	T-966C-24x16.4-94
L band, 940 grooves/mm	27.4 × 10 mm	26.4 × 9 mm	T-940L-2710-94
C+L band, 940 grooves/mm	27.4 × 10 mm	26.4 × 9 mm	T-940CL-2710-92

高級反射光柵（電信）

LightSmyth使用電信級偏振分集光學(xué)設(shè)計和激光頻率穩(wěn)定技術(shù)生產(chǎn)高效率反射光柵。采用投影光刻和反應(yīng)性離子蝕刻技術(shù)在硅單晶基底上金屬化，以實現(xiàn)單極化的高效性能。每個光柵均設(shè)計為母光柵，而不是復(fù)制光柵，達到低散射光和持久性能目標。

單極化超高效率
采用高強度介電材料，不使用聚合物
每個光柵均是超低散射母光柵
高競爭力價格，Telcordia質(zhì)量認證

Line Density	Size	Performance Grade	Part Number
1200 lines/mm	12.5 × 12.5 mm	High	SLG-C12-1212A-Au-HP
	25 × 25 mm	High	SLG-C12-2525A-Au-HP

標準反射光柵

每塊光柵都是高性能的母板，不使用聚合物
超低成本（低于復(fù)制光柵）
免費復(fù)制/缺陷檢測核定；超低散射
高強度單晶硅基板
近似于銅的熱導(dǎo)率
高硼硅玻璃，減少熱膨脹

Line Density (lines/mm)	λPE 1	Size	Part number
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C12-1212A-Al
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	25 mm × 25 mm	SLG-C12-2525A-Al
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	50 mm × 30 mm 2	SLG-C12-5030A-Al
1800	390 nm (s), 660 nm to 1.0 μm (p)	20 mm × 9 mm 2	SLG-C18-2009A-Al
2400	300 nm (s),430 nm to 780 nm(p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C24-1212A-Al
3600	240 nm (s), 480 nm (p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C36-1212A-Al

X射線和深紫外光柵列表

Line Density (lines/mm)	Groove depth	Size	Part number
7200	50 nm	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C72-1212A-Au
7200	50 nm	25 mm × 25 mm	SLG-C72-2525A-Au
7200	50 nm	50 mm × 50 mm	SLG-C72-5050A-Au

脈沖壓縮透射光柵

脈沖壓縮光柵重要的性質(zhì)是衍射效率高和低的波前變形，面向光柵的多通使用要求。激光脈沖壓縮傳輸光柵基于LightSmyth破紀錄的透射光柵平臺。優(yōu)化的線性P-偏振衍射效率在94％以上，它可以讓我們的客戶小化系統(tǒng)光學(xué)損耗，尤其面向高能激光器。

優(yōu)點

對指定的偏振有特殊的衍射效率
寬帶和低角度的敏感性特殊設(shè)計
超拋光石英基底使波前變形小化
使用熔融石英和高可靠介電材料
不使用聚合物或有機材料
每個光柵均為超低散射母光柵

Description	LSFSG-1000	T-1200-850	T-1500-875	T-1850-915s	T-1850-970s	T-1600-976s	T-1600-1060s	Units
Line Density	1000	1208.46	1503.76	1851.851	1851.851	1600	1600	l/mm
Operational Wavelength Range	1040±20	850±20	875±20	915±10	970±10	976±10	1060±20	nm
Optimum Angle of Incidence	31.0 ± 1	30.7 ±1	41.0 ±1	57.9±1	63.9±1	51.3±1	58.0±1	°
Line Density Uniformity (within grating)	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	l/mm
Optimal Polarization	any	any	any	S-	S-	S-	S-	nm
Diffraction Efficiency	> 94	> 94	> 94	> 93	> 93	> 94	> 94	%

Line Density	Wavelength, Polarization	Substrate Size 1, 2	Part Number
1000 lines/mm	1040 nm, any	31.8 × 12.3 mm	LSFSG-1000-3212-94
		31.8 × 24.8 mm	LSFSG-1000-3225-94
		130.0 × 12.3 mm	LSFSG-1000-13012-94
		130.0 × 20 mm	LSFSG-1000-13020-94
		up to 135 mm diameter	LSFSG-1000-cust
1200 lines/mm	850 nm, any	21.65 × 15.9 mm	T-1200-850-2216-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1200-850-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1200-850-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1200-850-cust
1500 lines/mm	875 nm, any	24.8 × 15.9 mm	T-1500-875-2516-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1500-875-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1500-875-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1500-875-cust
1850 lines/mm	915 nm, S	31.8 × 10.0 mm	T-1850-915s-3210-93
		31.8 × 20.2 mm	T-1850-915s-3220-93
		130.0 × 10.0 mm	T-1850-915s-13010-93
		130.0 × 20.2 mm	T-1850-915s-13020-93
		up to 135 mm diameter	T-1850-915s-cust
1850 lines/mm	970 nm, S	31.8 × 10.0 mm	T-1850-970s-3210-93
		31.8 × 20.2 mm	T-1850-970s-3220-93
		130.0 × 10.0 mm	T-1850-970s-13010-93
		130.0 × 20.2 mm	T-1850-970s-13020-93
		up to 135 mm diameter	T-1850-970s-cust
1600 lines/mm	976 nm, S	31.8 × 12.3 mm	T-1600-976s-3212-94
		40 × 10 mm	T-1600-976s-4010-94
		31.8 × 24.8 mm	T-1600-976s-3225-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1600-976s-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1600-976s-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1600-976s-cust
1600 lines/mm	1060 nm, S	31.8 × 12.3 mm	T-1600-1060s-3212-94
		31.8 × 24.8 mm	T-1600-1060s-3225-94
		130.0 × 10 mm	T-1600-1060s-13010-94
		130.0 × 20 mm	T-1600-1060s-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1600-1060s-cust

Nanopatterned Silicon Stamps

LightSmyth提供種類繁多的納米制造單結(jié)晶硅基底，為納米光子學(xué)研究行業(yè)和學(xué)術(shù)機構(gòu)提供了一個低成本應(yīng)用的方案。可用于各種應(yīng)用在光學(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（如中子散射）、高分子材料研究、納米、微流體和其他的基板。如果需要的話，可以在基板進行金屬或介電材料鍍膜。大多數(shù)截面型材的表面特征略呈梯形，有直線平行的臺地和溝槽以及格狀結(jié)構(gòu)。可提供多種特征尺寸和溝槽深度。基板的SEM圖像，可以在裝運之前進行更新的確認。

Description	Value
Clear Aperture (CA)	0.5 mm from substrate edge (the pattern may extend to the edge of the substrate)
Substrate Thickness	0.675 ± 0.050 mm
Surface Quality in CA	P/N ends with "-P": 60/40 scratch/dig: 0.06 mm maximum scratch width, 0.4 mm maximum dig diameter. up to 20/10 specification may be provided at a premium
Surface Quality in CA	P/N ends with "-S": Discounted grade due to surface quality. Has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present
Surface Quality outside of CA	no requirements
Material	Single crystal silicon, reactive ion etch

線性納米結(jié)構(gòu)

Period	Groove depth	Duty cycle 1	Line width 2	Size 3	Part number
139 nm	50 nm	50%	69.5 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C72-1212-50-P
139 nm	50 nm	50%	69.5 nm	25×25×0.7 mm	SNS-C72-2525-50-P
278 nm	110 nm	50%	139 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C36-1212-110-S
416.6 nm	110 nm	50%	208 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C24-1212-110-P
500 nm	multiple	44%	220 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C20-0808-xxx-D45-P
500 nm	multiple	60%	300 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C20-0808-xxx-D60-P
555.5 nm	110 nm	50%	278 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-110-D50-P
555.5 nm	140 nm	50%	278 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-140-D50-P
555.5 nm	110 nm	29%	158 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-110-D29-P
555.5 nm	140 nm	29%	158 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-140-D29-P
600 nm	multiple	43%	260 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C16.7-0808-xxx-D45-P
600 nm	multiple	55%	330 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C16.7-0808-xxx-D55-P
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×12×0.7 mm	SNS-C16.5-2912-190-P
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×12×0.7 mm	SNS-C16.5-2912-190-S
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×24.2×0.7 mm	SNS-C16.5-2924-190-P
675 nm	170 nm	32%	218 nm	24×10×0.7 mm	SNS-C14.8-2410-170-P
675 nm	170 nm	32%	218 nm	24×30.4×0.7 mm	SNS-C14.8-2430-170-P
700 nm	multiple	47%	330 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C14.3-0808-xxx-D45-P
700 nm	multiple	55%	375 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C14.3-0808-xxx-D55-P
833.3 nm	200 nm	50%	416 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C12-1212-200-P
833.3 nm	200 nm	50%	416 nm	25×25×0.7 mm	SNS-C12-2525-200-P

2維納米模板

Period	Lattice type	Groove depth	Feature width	Size	Part number
500 nm	rect post	multiple	135 nm	8×8.3×0.7 mm	S2D-24B1-0808-xxx-P
500 nm	rect post	multiple	210 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B1-0808-xxx-P
600 nm	rect post	multiple	195 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24B2-0808-xxx-P
600 nm	rect post	multiple	275 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B2-0808-xxx-P
700 nm	rect post	multiple	260 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24B3-0808-xxx-P
700 nm	rect post	multiple	350 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B3-0808-xxx-P
500 nm	hex post	multiple	165 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C1-0808-xxx-P
600 nm	hex post	multiple	165 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24C2-0808-xxx-P
600 nm	hex post	multiple	240 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C2-0808-xxx-P
700 nm	hex post	multiple	220 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24C3-0808-xxx-P
700 nm	hex post	multiple	290 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C3-0808-xxx-P
600 nm	hex hole	multiple	180 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24D2-0808-xxx-P
700 nm	hex hole	multiple	200 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18D3-0808-xxx-P
700 nm	hex hole	multiple	290 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24D3-0808-xxx-P



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